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パルスレーザー成膜(PLD)装置によるVO2薄膜の作成およびその電気伝導特性の評価

【 研修概要 】

二酸化バナジウム(VO2)は341K付近で絶縁相(低温相:monoclinic)から金属相(高温相:tetragonal)に相転移するため、スイッチング素子への応用等が検討されている材料です。今回は、このVO2薄膜を作成し、その評価方法を実習します。

【 実施機関 】大阪大学 産業科学研究所

【 研修期間 】 4日間

【 研修スケジュール 】 

1日目 施設見学・研修の概要説明・成膜(条件1)の試料セット(14:00~17:00)
2日目 成膜(条件1ならびに条件2)(9:30~17:00)
3日目 X線回折ならびに電気伝導特性評価(9:30~17:00)
4日目 走査型電子顕微鏡もしくは走査型プローブ顕微鏡による表面観察(9:30~13:00)

【 開催日 】令和2年9月~令和2年11月(このうち4日間。希望者と日程調整による)

【 定員 】 2名

【 費用 】 無料 旅費支給可(大学等の技術職員・技術スタッフに限る)

【 応募締め切り 】 8月31日(月)

【対象要件・特記事項】未経験者歓迎、企業不可

【 開催場所 】  大阪府茨木市美穂ケ丘8-1 大阪大学産業科学研究所内N411室/N606室等

【 申込方法 】  申し込みアドレス

          大阪大学 ナノテクノロジープラットフォーム 分子物質合成プラットフォーム

          北島 <kitajima@sanken.osaka-u.ac.jp>

          

※旅費支給希望者はメールの宛先に、大学連携研究設備ネットワーク( eqnet-office@ims.ac.jp ) を

必ずCCに入れて送信して下さい。(お忘れの場合は旅費支給ができませんのでご注意ください。)